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產業動態 中微在由美國科林研發在台灣發起的專利侵權訴訟中取得第四次勝利
PR Newswire Asia 本新聞稿發佈於2012/01/05,由發布之企業承擔內容之立場與責任,與本站無關

上海,台北和舊金山2012年1月5日電 /美通社亞洲/ -- 中微半導體設備有限公司( http://www.amec-inc.com )(AMEC)宣佈中微在由美國科林研發在台灣針對中微關聯公司提起的訴訟中再次取得了勝利。

 
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2011年12月29日,台灣智慧財產法院(「IP Court」)作出判決,維持了由台灣經濟部智慧財產局(「TIPO」)作出的不利於科林研發的決定。台灣智慧財產法院在判決中支持了台灣經濟部智慧財產局的立場,宣佈科林研發的專利號為126873的台灣專利(聚焦環裝置專利)由於缺乏新穎性和創造性而無效,因而無法構成指控中微侵權的依據。

法庭的宣判證實了中微在科林研發指控中微專利侵權的糾紛案中第四次取得了重大勝利,並且進一步證明了中微在全球範圍內尊重知識產權的堅定承諾。

中微公司執行長尹志堯博士說道:「在科林研發針對中微 Primo D-RIE(R) 產品的核心技術領域發起的專利侵權訴訟中,中微再一次有力地澄清了指控。儘管有科林研發法律訴訟的干擾,但中微的業務仍然穩步發展。客戶正在進一步認識到中微可單台獨立操作的雙台反應器蝕刻設備獨特的設計、穩定的性能和成本上的顯著優勢。我們的首要任務是,通過提供最佳的蝕刻設備,幫助客戶達到日益增強的、更有挑戰性的技術指標。」

關於中微半導體設備有限公司

公司致力於為全球晶圓生產廠商和相關高科技領域的世界領先公司提供一系列先進的晶圓生產設備。客戶正是運用了中微先進的蝕刻設備和技術,製造了電子產品中最為關鍵的晶片元件。中微的先進設備在65、45、32、28、22奈米及以下的晶圓生產領域實現了技術創新和生產力提高的最優化。中微公司以亞洲為基地,總部位於中國上海,其研發、製造、銷售和客戶服務機構遍佈日本、南韓、中國台灣、新加坡等地。

更多訊息請訪問公司網站:www.amec-inc.com

Primo D-RIE為中微公司註冊商標。

消息來源 中微半導體設備有限公司


- 新聞稿有效日期,至2012/02/05為止


聯絡人 :Evan
聯絡電話:852-3971-4982
電子郵件:evan.leung@prnasia.com

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