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產業動態 CYMER 與 KLA-TENCOR 合作加速顯影製程的最佳化
香港商廿一世紀公關顧問公司 本新聞稿發佈於2006/04/11,由發布之企業承擔內容之立場與責任,與本站無關

Cymer 公司 (Nasdaq NM: CYMI) — 全球深紫外光 (DUV) 準分子雷射光源 (應用在半導體製造) 的領導供應商,在今日宣布與 KLA-Tencor (NASDAQ: KLAC) — 半導體產業的製程控制及良率管理解決方案領導供應商簽署共同合作的協議。

 
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Cymer 的光源光譜整合至 KLA-Tencor 的先進顯影製程最佳化工具PROLITH™

Cymer 公司 (Nasdaq NM: CYMI) — 全球深紫外光 (DUV) 準分子雷射光源 (應用在半導體製造) 的領導供應商,在今日宣布與 KLA-Tencor (NASDAQ: KLAC) — 半導體產業的製程控制及良率管理解決方案領導供應商簽署共同合作的協議。在協議簽署之後,Cymer 將會提供光源光譜的各項細節以整合至 KLA-Tencor 的符合業界標準的顯影最佳化工具PROLITH 。此外,兩家公司期望共同開發功能更強大的 PROLITH版本。

透過此項合作,Cymer 和 KLA-Tencor 計畫運用其已獲得認可的專業技術提供更高的準確度,讓使用者能夠立即獲得更精準的光學顯影製程表現。因此,顧客可以更快速地進行其顯影製程的最佳化,進而縮短其量產前所需的準備時間,將整體的投資報酬率 (ROI) 增至最大,在今日先進的顯影競技場中藉由取得關鍵差異性而獲得成功。

「隨著數值孔徑(NA) 的愈來愈高和製程視窗的愈縮愈小,雷射頻寬對於關鍵尺寸 (CD) 的影響也越來越重要。隨著這些效果日益增加,我們也發覺客戶對於更準確呈現的光源光譜的需求也不斷增加。」KLA-Tencor Process分析部門總經理 Edward Charrier 說道:「藉由運用 Cymer 的雷射光譜資料與專業技術,我們能夠提供顧客最多樣的光學顯影製程的呈現,並且提供更高的準確度。」

先進的顯影製程最佳化工具PROLITH可幫助使用者在評估製程效能的改善時,洞悉顯影製程參數的影響。同時,透過新的增效功能,讓 PROLITH 的顧客能夠在其先進的顯影製程中,將光源光譜特性的變化所造成的影響加以模型化,並且使用這些結果將其製程有效地最佳化,將差異所造成的影響減至最小。

「我們持續與 KLA-Tencor 合作模擬雷射頻寬對於 CD 的影響已經長達五年的時間。現在我們非常樂意再次結合力量,開發最新版的PROLITH以符合關鍵產業的需求」Cymer 顯影應用市場行銷副總裁 Nigel Farrar 表示:「KLA-Tencor 將我們的頻寬資料整合至 PROLITH 中是建立在 Cymer 於雷射頻寬對影像的影響的廣泛研究基礎上,進而使顧客能應用在下一代的顯影技術中。」
使用者現在可以取得 PROLITH 最新的版本 9.3.1。


關於 Cymer
Cymer, Inc. 是 DUV 光源、 DUV 顯影系統基本光源的全球領導供應商。DUV 顯影是一項關鍵技術 — 讓半導體產業能夠達到正確的規格與製造需求,以滿足目前先進半導體晶片量產的需要。有關 Cymer 進一步的資訊,可以透過該公司的 SEC 檔案取得,網址為:www.cymer.com 或直接與公司連絡。

關於 KLA-Tencor
KLA-Tencor 是全球半導體製造和相關產業的良率管理及製程控制解決方案領導供應商。其總部位於美國加州聖荷西,在世界各地均設有業務及客戶服務辦公室。屬於 S&P 500 大公司的 KLA-Tencor 在 Nasdaq 上市交易,交易代碼為 KLAC。關於該公司其他相關資訊,請造訪公司網站 http://www.kla-tencor.com

- 新聞稿有效日期,至2006/05/12為止


聯絡人 :王朗豪
聯絡電話:2577-2100 ext. 811
電子郵件:kalvin.wang@erapr.com

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