隨著AI應用快速成長，半導體製程節點持續縮小、結構日益複雜，製程對於化學氣體的純度、輸送穩定性，和閥門開關的控制精密度具備更高要求。面對高溫、高腐蝕與高潔淨等極端應用條件，傳統流體元件已難以因應奈米級製程對流量精準控制與穩定輸送的嚴格要求。Swagelok本次所展示的多項突破性解決方案，展現其在材料選用、氣動控制與系統整合方面的深厚實力，助力晶圓廠提升製程可靠度、良率與產能，以因應AI時代下日益嚴苛的挑戰。

ALD閥滿足奈米級薄膜沉積品質要求
Swagelok專為原子層沉積（Atomic Layer Deposition, ALD）製程設計的ALD閥，採用獨家316L不鏽鋼的特殊材料配方，並透過真空感應熔煉（Vacuum Induction Melting, VIM）與真空電弧重熔（Vacuum Arc Remelting, VAR）的雙重精密熔煉技術，達到優於SEMI F20標準的超高純度（Ultrahigh Purity）潔淨度，使其能承受高溫及腐蝕性等極端製程環境。其小於5毫秒的快速開關反應，可確保化學劑量的精準輸送與製程再現性。整體設計提供無縫密封、±3%的流量穩定性，以及高達一億次的開關壽命，展現優異的高循環可靠性與一致性。

Swagelok也持續創新與精進，本次展會中首次分享ALD閥最新型號—ALD7C，除了承襲前幾代的特色與優勢外，更全面採用高耐腐蝕性 Alloy 22 合金材質，可承受高達攝氏250度的製程環境，在耐溫範圍內依然維持穩定的流量係數與優異性能。更值得一提的是，ALD7C 採用全新可替換式的閥座設計，透過模組化的設計，達到減少零件的目的，同時也減少閥體的內部容積。如此一來，除了能方便工程人員進行快速拆卸，顯著縮短停機時間，更能大幅降低零件維護成本，減少潛在風險與錯誤發生的機率。

最新ALD精準微量控制技術首次亮相
Swagelok 也首次公開ALD製程中的最新精準微量控制（Dose Control）技術，突破傳統機械設計的限制，創新導入感測器與電腦運算，結合預測時間校正演算法（Predicted Time-Correction Algorithms, PTCA）與氣動系統優化，達到多閥門開關的精準控制。此技術能有效補償氣動系統中閥門作動的時間差異，顯著降低單一閥門延遲，並抑制多閥門同時啟動時產生的瞬態壓力尖峰。透過提升閥門動作一致性，將有助於流量穩定，減少劑量變異，進而增加沉積均勻度，有效提升晶圓良率與製程穩定性。此外，Swagelok的精準微量控制技術具高度彈性與通用性，可擴展應用於不同類型的設備與氣動系統中，適合導入於各種製程與平台中。

全方位流體系統解方因應製程挑戰
在先進製程持續邁向更高精度與潔淨度的趨勢下，Swagelok 的高性能流體系統解決方案，成為支撐半導體製造穩定性的關鍵力量。在晶圓製造的關鍵製程中，Swagelok的元件皆能提供精準且純淨的流體傳輸，確保每道製程參數都能達到極致的穩定度與再現性。其技術核心涵蓋超高純度材料、精確流量控制、元件高溫穩定性及卓越的耐腐蝕性，以此來因應不同製程環境的嚴苛挑戰，展現出高度靈活性與廣泛適用性。

「面對 AI 技術驅動下的製程革新，Swagelok 持續以最高品質的產品、即時的技術支援、靈活的客製化解決方案，以及高效率的服務模式，協助客戶因應日益嚴峻的製程挑戰，不斷追求創新，並實現更高產能與良率，」Swagelok 工程管理部產品設計總監Joao Borges表示。「我們期許能『成為全球信賴的流體系統專家』，因此我們致力於深入理解產業需求與痛點，與客戶並肩，攜手打造更安全、穩定且可長期運作的流體系統，共同實現更高效、精密的製程目標。」

「隨著AI技術快速發展，晶片製程日益複雜，對設備穩定性與製程潔淨度的要求也不斷提升。我們觀察到，對許多半導體客戶而言，如何在提升製程良率的同時，加速新製程的導入，已成為一大挑戰。」帆宣科技先進設備事業處副總經理李瑞文表示。「為協助客戶在先進製程中取得穩定效能，我們不僅使用符合嚴格潔淨要求的產品，更重視即時的技術支援與教育訓練，強化人員操作的熟練度與維護能力。這些投入，有助於我們提升系統整體穩定性、良率與效率，進一步創造更高的產能利用率與製程信賴性——而這正是我們與Swagelok合作所獲得的關鍵價值。」

作為全球流體系統領導品牌，Swagelok長期以美國製造的高品質產品，支援半導體供應鏈的關鍵發展。深耕台灣27年以來，Swagelok透過技術共創與專業服務，提供從產品選型、系統設計、組裝到現場診斷的全方位支援，與台灣半導體產業建立緊密的夥伴關係。未來，Swagelok 將持續整合在地團隊的即時服務與全球資源的技術優勢，協助台灣半導體廠商加速製程創新、迎戰先進節點挑戰，推動產業持續成長與升級。

- 新聞稿有效日期，至2025/10/09為止

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